论文成果
微纳水溶解抛光工艺参数对KDP晶体面粗糙度影响的试验研究
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- 论文类型：期刊论文
- 发表时间：2015-10-15
- 发表刊物：人工晶体学报
- 收录刊物：EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus
- 文献类型：J
- 卷号：44
- 期号：10
- 页面范围：2702-2707
- ISSN号：1000-985X
- 关键字：KDP晶体;表面粗糙度;水溶解抛光
- 摘要：微纳水溶解抛光与计算机控制光学表面成形(CCOS)小工具抛光技术相结合,是针对大尺寸易溶于水的KDP晶体元件的一种有效加工方法.本文针对小工具抛光中行星运动方式及水溶解抛光工艺特点,为揭示各抛光工艺参数对KDP晶体表面粗糙度的影响规律,对晶体进行均匀抛光,并以抛光头转速比和转速、自转和公转方向、抛光载荷、抛光头直径、抛光液含水量为参变量,得到了最优抛光参数:抛光头公转自转反向,转速100r/min;抛光液含水量7.5％(质量分数);使用较大尺寸抛光头(工件尺寸的十分之一至五分之一).
