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教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 精密与特种加工教育部重点实验室 副主任； 中国光整加工专业委员会 主任委员； 中国生产工程学会 常务理事； 中国国际磨粒加工技术学会（ICAT）常务理事
性别：男
毕业院校：东北工学院
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：机械制造及其自动化
办公地点：机械工程学院知方楼7185室
联系方式：0411-84706138 gaohang@dlut.edu.cn
电子邮箱：gaohang@dlut.edu.cn
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微纳水溶解抛光工艺参数对KDP晶体面粗糙度影响的试验研究
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论文类型：期刊论文
发表时间：2015-10-15
发表刊物：人工晶体学报
收录刊物：EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus
卷号：44
期号：10
页面范围：2702-2707
ISSN号：1000-985X
关键字：KDP晶体;表面粗糙度;水溶解抛光
摘要：微纳水溶解抛光与计算机控制光学表面成形(CCOS)小工具抛光技术相结合,是针对大尺寸易溶于水的KDP晶体元件的一种有效加工方法.本文针对小工具抛光中行星运动方式及水溶解抛光工艺特点,为揭示各抛光工艺参数对KDP晶体表面粗糙度的影响规律,对晶体进行均匀抛光,并以抛光头转速比和转速、自转和公转方向、抛光载荷、抛光头直径、抛光液含水量为参变量,得到了最优抛光参数:抛光头公转自转反向,转速100r/min;抛光液含水量7.5％(质量分数);使用较大尺寸抛光头(工件尺寸的十分之一至五分之一).