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教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 精密与特种加工教育部重点实验室 副主任； 中国光整加工专业委员会 主任委员； 中国生产工程学会 常务理事； 中国国际磨粒加工技术学会（ICAT）常务理事
性别：男
毕业院校：东北工学院
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：机械制造及其自动化
办公地点：机械工程学院知方楼7185室
联系方式：0411-84706138 gaohang@dlut.edu.cn
电子邮箱：gaohang@dlut.edu.cn
软脆功能晶体碲锌镉化学机械抛光
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论文类型：期刊论文
发表时间：2008-12-15
发表刊物：机械工程学报
收录刊物：Scopus、EI、PKU、ISTIC、CSCD
卷号：44
期号：12
页面范围：215-220,225
ISSN号：0577-6686
关键字：软脆功能晶体;CdZnTe;化学机械抛光;纳米球抛光液
摘要：采用直径为2～5 μm α型Al2O3研磨剂和自行研制的均匀分布的5 nm抛光球抛光液,进行研磨-机械抛光-化学机械抛光新工艺对Cd0.9Zn0.1Te(111)、Cd0.96Zn0.04Te(110)和Cd0.96Zn0.04Te(111)单晶片进行了精密抛光研究,并对Cd0.96Zn0.04Te(111)单晶片采用研磨-机械抛光-化学腐蚀传统加工方法进行了对比研究.采用传统加工方法加工的Cd0.96Zn0.04Te(111)表面有很多的腐蚀沟、嵌入硬质颗粒和较大划痕;而采用新工艺后Cd0.9Zn0.1Te(111)单晶片表面光滑,无加工缺陷; Cd0.96Zn0.04Te(110)表面光滑,无任何嵌入硬质颗粒,有较浅的腐蚀坑和轻微的划痕;Cd0.96Zn0.04Te(111)表面光滑,无任何嵌入硬质颗粒、腐蚀坑,有非常少的极轻微的隐约可见的小划痕.Cd0.9Zn0.1Te(111)、Cd0.96Zn0.04Te(110)和Cd0.96Zn0.04Te(111)单晶片表面化学机械抛光后表面粗糙度Ra分别为2.196 nm,3.145 nm,3.499 nm.