谭毅Yi Tan

(教授)

 博士生导师  硕士生导师
学位:博士
性别:男
毕业院校:东京工业大学
所在单位:材料科学与工程学院
电子邮箱:tanyi@dlut.edu.cn

论文成果

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不同压力条件下熔融硅除磷的效果及机理

发表时间:2019-03-11 点击次数:

论文名称:不同压力条件下熔融硅除磷的效果及机理
论文类型:期刊论文
发表刊物:机械工程材料
收录刊物:PKU、ISTIC、CSCD
卷号:35
期号:6
页面范围:23-26
ISSN号:1000-3738
关键字:太阳能级硅; 真空熔炼; 除磷; 去除速率
摘要:采用钨丝网发热体对工业硅进行高温熔炼,通过在真空条件和低压条件下的对比试验,研究了不同压力条件对磷去除效果的影响。结果表明:在1*10~(-3)
   ~2*10~(-2)Pa的真空条件下熔炼时,磷含量随熔炼时间的延长而降低并在熔炼前期下降迅速;磷的去除反应为一阶反应式,活化能为 102
   kJ·mol~(-1),随熔炼温度的升高去除速率加快,2.7 ks时去除率超过80%;在2~6
   Pa的低压条件下熔炼时,磷的去除反应也可以用一阶反应式表示,但磷的去除速率受温度影响不明显,去除速率常数受环境压力影响比真空条件下的低;不同压力
   条件下熔炼时磷去除速率的控制步骤不同。
发表时间:2011-01-01