谭毅Yi Tan

(教授)

 博士生导师  硕士生导师
学位:博士
性别:男
毕业院校:东京工业大学
所在单位:材料科学与工程学院
电子邮箱:tanyi@dlut.edu.cn

论文成果

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腐蚀时间对多孔硅层形貌及多晶硅性能的影响

发表时间:2019-03-11 点击次数:

论文名称:腐蚀时间对多孔硅层形貌及多晶硅性能的影响
论文类型:期刊论文
发表刊物:机械工程材料
收录刊物:PKU、ISTIC、CSCD
卷号:35
期号:9
页面范围:58
ISSN号:1000-3738
关键字:多孔硅; 多晶硅; 化学腐蚀; 电阻率; 少子寿命
摘要:采用化学腐蚀方法在多晶硅表面制备多孔硅层,通过外吸杂热处理方法进行除杂后对腐蚀不同时间后多孔硅层的形貌、多晶硅少子寿命和电阻率等进行了研究。结果
   表明:随着腐蚀时间的延长,形成的多孔硅层呈现不同的形貌,多孔壁孔径逐渐变大,少子寿命延长且电阻率增大;腐蚀14
   min后,多孔硅层局部区域坍塌,孔壁变薄;腐蚀11 min时,经850℃吸杂处理的多孔硅层少子寿命和电阻率达到峰值,分别为0. 98mus和0.
   16 Omega?cm。
发表时间:2011-01-01