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发布时间：2019-03-10

论文类型：期刊论文

发表时间：2015-11-05

发表刊物：环境工程学报

收录刊物：CSCD、ISTIC、PKU、Scopus

卷号：9

期号：11

页面范围：5281-5287

ISSN号：1673-9108

关键字：O3/H2O2;印染废水生化出水;深度处理;有机物去除行为

摘要：采用O3/H2O2高级氧化工艺深度处理印染废水二级出水,考察了不同反应条件对O3/H2O2工艺的影响,并且对污水二级出水有机物(EfOM)的性质和去除行为进行了表征分析.结果表明,在pH =9,臭氧进气流量0.2 L/min,臭氧浓度116 mg/L,反应时间100 min,H2O2投加量9.79 mmol/L时,COD和色度去除率分别为82.2％、96.9％,B/C(BOD5/COD)由初始的0.10提升到0.32.此外,三维荧光光谱(3DEEM)、相对分子质量分布(MWD)以及亲疏水性分布分析表明,处理后EfOM的荧光特性发生变化,低分子量物质大量增加,亲疏水性分布也有所改变.