location: Current position: Home >> Scientific Research >> Paper Publications

400 nm高性能紫光LED的制作与表征

Hits:

Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2013-02-15

Journal:发光学报

Included Journals:EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

Volume:34

Issue:2

Page Number:225-229

ISSN No.:1000-7032

Key Words:金属有机物化学气相沉积;紫光发光二极管;GaN发光二极管;电子阻挡层;超晶格

Abstract:利用金属有机物化学气相沉积技术在蓝宝石衬底表面制备了带有p-AlGaN电子阻挡层的400 nm高性能紫光InGaN多量子阱发光二极管.制作了3种紫光LED,分别带有不同p-AlGaN电子阻挡层结构:Al摩尔分数为9%的p-AlGaN电子阻挡层;Al摩尔分数为11%的p-AlGaN电子阻挡层;Al摩尔分数为20%的10对p-AlGaN/GaN超晶格电子阻挡层.带有高浓度Al电子阻挡层的紫光LED的光输出功率高于低浓度Al电子阻挡层的紫光LED.带有10对p-AlGaN/GaN超晶格电子阻挡层的紫光LED的光输出功率获得了极大的提高,在20 mA注入电流时测试得到的光输出功率为21 mW.此外,该LED同时显示了在高注入电流下接近线性的I-L特性曲线和在LED芯片表面均匀的发光强度分布.

Pre One:β相V2O5纳米棒的生长及其光电性能

Next One:高热导石墨衬底上的ZnO基MOS器件生长及表征