Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2017-04-01

Journal: 无机材料学报

Included Journals: Scopus、SCIE、CSCD、EI

Volume: 32

Issue: 4

Page Number: 437-442

ISSN: 1000-324X

Key Words: 二氧化钒薄膜;太赫兹时域光谱;分子束外延;金属-绝缘体相变

Abstract: 采用分子束外延(MBE)技术在单晶蓝宝石衬底上生长了高质量化学计量比二氧化钒(VO2)薄膜,通过该技术实现薄膜厚度15～60 nm精确控制.对于优化条件下VO2薄膜,实现了电阻率变化超过4个数量级的优异金属-绝缘体相变,近似于之前报道高质量单晶VO2相变特性.特别是通过太赫兹时域光谱分析了不同厚度的VO2薄膜在太赫兹波段的光学特性.结果表明:VO2薄膜的厚度对其在太赫兹波段的光学特性有很大影响.因此,为了获得更优的可靠性和重复性能,VO2薄膜的厚度必须得到精确控制.本研究结果对于下一步VO2基太赫兹器件研究具有重要意义.