Hits:
Indexed by:会议论文
Date of Publication:2009-08-15
Page Number:1
Key Words:热氧化;薄膜结构;ZnO;光学特性;薄膜制备技术;沉积参数;氧化温度;结晶取向;光学性质;射频磁控溅射法;
Abstract:不同的制备技术及工艺参数决定了ZnO薄膜的结晶取向、表面粗糙度及性质上的差异。对比其他制备方法,热氧化法不需要催化剂,是一种相对简单的方法。由于沉积参数相对可控,且氧化温度无需太高,所以这是一种易于应用的薄膜制备技术。
Pre One:Photoluminescence and extinction enhancement from ZnO films embedded with Ag nanoparticles
Next One:Scaling behavior and structure transition of ZrO2 films deposited by RF magnetron sputtering
