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Indexed by: Conference Paper

Date of Publication: 2009-08-15

Page Number: 1

Key Words: 热氧化;薄膜结构;ZnO;光学特性;薄膜制备技术;沉积参数;氧化温度;结晶取向;光学性质;射频磁控溅射法;

Abstract: 不同的制备技术及工艺参数决定了ZnO薄膜的结晶取向、表面粗糙度及性质上的差异。对比其他制备方法,热氧化法不需要催化剂,是一种相对简单的方法。由于沉积参数相对可控,且氧化温度无需太高,所以这是一种易于应用的薄膜制备技术。