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酞菁铜薄膜制备及其光学性能

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2010-12-15

Journal:大连交通大学学报

Included Journals:ISTIC

Volume:31

Issue:6

Page Number:79-82

ISSN No.:1673-9590

Key Words:酞菁铜;半导体薄膜;真空蒸发镀膜

Abstract:采用真空蒸发的方法在ITO玻璃上制备了CuPc 薄膜,并用分光光度计(U-3310)测试了四种不同厚度的CuPc薄膜的透射/吸收/反射率随波长变化情况,重点分析了其中的吸收规律.结果显示波段在340~370nm和570~720nm光吸收率基本上在90%左右,在480nm吸收率最低,大部分光都已透射.同时用扫描电子显微镜对薄膜进行了成分分析,对照能谱图可以看出样品中含有碳、氧、铜等元素,与酞菁铜薄膜元素组成成分相符.

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