Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2010-12-15

Journal: 大连交通大学学报

Included Journals: ISTIC

Volume: 31

Issue: 6

Page Number: 79-82

ISSN: 1673-9590

Key Words: 酞菁铜;半导体薄膜;真空蒸发镀膜

Abstract: 采用真空蒸发的方法在ITO玻璃上制备了CuPc 薄膜,并用分光光度计(U-3310)测试了四种不同厚度的CuPc薄膜的透射/吸收/反射率随波长变化情况,重点分析了其中的吸收规律.结果显示波段在340～370nm和570～720nm光吸收率基本上在90%左右,在480nm吸收率最低,大部分光都已透射.同时用扫描电子显微镜对薄膜进行了成分分析,对照能谱图可以看出样品中含有碳、氧、铜等元素,与酞菁铜薄膜元素组成成分相符.