Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2008-12-15

Journal: 科技管理研究

Included Journals: PKU

Volume: 28

Issue: 12

Page Number: 455-457

ISSN: 1000-7695

Key Words: 外国申请;专利保护水平;科尔尼指数;在美专利;FDI;地理距离

Abstract: 近年来,外国在华专利申请呈现持续增长的势头,且伴随着外国专利的申请,国外企业与中国企业的专利竞争也愈加激烈.通过机理和数理分析可以发现,外国在华专利申请受到我国专利保护水平、市场吸引力以及该国总体技术水平、在华直接投资数量等因素的影响.另外一个有意思的结论是,外国在华专利申请与两国之间的距离没有直接的相关关系.