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Indexed by:Journal Papers

Date of Publication:2019-09-19

Journal:机电工程技术

Volume:48

Issue:9

Page Number:35-37

ISSN No.:1009-9492

Key Words:单晶硅;针尖;各向异性刻蚀

Abstract:纳米硅尖在原子力学显微镜、微机械电子、光学研究、纳米级图形加工上具有广泛的用途.然而,如何制备小曲率半径高纵横比的硅尖仍为有待解决的问题和挑战.根据各项异性湿法刻蚀硅尖原理,设计了硅尖的加工工艺流程,并制备出不同纵横比的纳米硅尖.通过观察掩模对角线刻蚀进程,得到了掩模对角线刻蚀速率与刻蚀温度的关系;对比了不同刻蚀温度对刻蚀硅尖的影响,发现采用40wt％KOH刻蚀液,水浴78℃的刻蚀条件满足自锐化且刻蚀出纳米硅尖曲率半径小而纵横比大,其曲率半径为26 nm,纵横比为1.9.