Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2014-04-30

Journal: 功能材料

Included Journals: Scopus、CSCD、ISTIC、PKU、EI

Volume: 45

Issue: 8

Page Number: 8129-8133

ISSN: 1001-9731

Key Words: 多孔硅 电子束注入 吸杂 电阻率 porous silicon electron beam injection gettering resistivity

Abstract: 研究了电子束注入对多孔硅吸杂效果的影响。采用电化学腐蚀方法利用双电解槽在单晶硅片上制备多孔硅。电子束注入以后多孔硅的微观形貌发生了变化，通过3 min的电子束注入处理，硅片的电阻率发生了明显的改变，大于相同条件下经过快速热处理的硅片的电阻率，这充分证明了电子束注入有热效应与电场效应的双重作用，对去除杂质B有一定的效果。电子束注入时间对去除杂质的效果有一定的影响。