尹鹏和
个人信息Personal Information
工程师
性别:男
毕业院校:上海交通大学
学位:硕士
所在单位:机械工程学院
电子邮箱:phyin@dlut.edu.cn
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MEMS制造中精确测量薄膜厚度的方法研究与比较
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论文类型:期刊论文
发表时间:2015-10-20
发表刊物:传感器与微系统
收录刊物:CSCD
卷号:34
期号:10
页面范围:15-17,21
ISSN号:1000-9787
关键字:薄膜厚度;接触式表面轮廓仪;光谱椭偏仪
摘要:精确测量各种功能薄膜的厚度在微机电系统( MEMS)制造加工过程中有非常重要的意义。利用接触式表面轮廓仪、光谱椭偏仪、电感测微仪、扫描电镜、原子力显微镜和工具显微镜分别测量了10 nm~100μm各种薄膜的厚度。比较了不同测量仪器的测量范围、分辨率和对样品的适用性,分析了薄膜厚度测量过程中误差产生的机理。实验结果表明:当存在膜层台阶时,10 nm~100μm的膜厚测量均可采用接触式表面轮廓仪,对于硬度较高的膜层可采用电感测微仪,对于厚度小于0.5μm的膜层可采用原子力显微镜;对于可观察样品侧面、厚度大于0.7μm的膜层可采用扫描电镜,工具显微镜适用于μm级膜层,对于厚度大于20μm的膜层不宜采用光谱椭偏仪。