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Indexed by:会议论文
Date of Publication:2011-10-28
Page Number:6
Key Words:中间品;技术溢出;研发强度;门槛效应
Abstract:通常情况下,产业内和产业外进口中间品对某产业的技术溢出均存在研发强度门槛效应。基于1996-2009年中低技术产业面板数据,论文用非线性动态面板门槛回归方法检验中间品技术溢出的研发强度门槛效应,发现产业外进口中间品(tram)对中国中低技术产业的技术溢出不存在研发强度门槛效应;产业内进口中间品(term)的技术溢出确实存在研发强度的单门槛效应,只有当数值大于0.6%时,研发强度才有利于term的技术溢出,我国中低技术产业中超过2/3行业的研发强度越过了该门槛,而这可能是我国进口中间品的总体技术质量不高造成的假象。
