成力为
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:女
毕业院校:哈尔滨工业大学
学位:博士
所在单位:金融与会计研究所
办公地点:大连理工大学经济管理学院D465
联系方式:cliwei60@126.com
电子邮箱:cliwei@dlut.edu.cn
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进口中间品技术溢出门槛效应分析——基于中低技术产业研发强度的视角
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论文类型:期刊论文
发表时间:2011-10-28
发表刊物:中国软科学
收录刊物:PKU
期号:S1
页面范围:61-66
ISSN号:1002-9753
关键字:中间品;技术溢出;研发强度;门槛效应
摘要:通常情况下,产业内和产业外进口中间品对某产业的技术溢出均存在研发强度门槛效应。基于1996-2009年中低技术产业面板数据,论文用非线性动态面板门槛回归方法检验中间品技术溢出的研发强度门槛效应,发现产业外进口中间品(tram)对中国中低技术产业的技术溢出不存在研发强度门槛效应;产业内进口中间品(term)的技术溢出确实存在研发强度的单门槛效应,只有当数值大于0.6%时,研发强度才有利于term的技术溢出,我国中低技术产业中超过2/3行业的研发强度越过了该门槛,而这可能是我国进口中间品的总体技术质量不高造成的假象。