成力为
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:女
毕业院校:哈尔滨工业大学
学位:博士
所在单位:金融与会计研究所
办公地点:大连理工大学经济管理学院D465
联系方式:cliwei60@126.com
电子邮箱:cliwei@dlut.edu.cn
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金融发展边界与企业R&D投资
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论文类型:期刊论文
发表时间:2017-05-20
发表刊物:科研管理
收录刊物:CSCD、CSSCI
卷号:38
期号:5
页面范围:38-47
ISSN号:1000-2995
关键字:金融发展边界 R&D投资 HECKIT模型 门限面板 financial development boundary R&D investment HECKIT model threshold panel
摘要:强化市场机制在资源配置中的决定作用,促进金融资本支持企业R&D投资是中国产业结构升级的关键.首先,构建金融发展对企业R&D投资阶段边界影响的理论模型,认为超过一定边界的金融规模或金融效率不利于企业的R&D决策和R&D投资.其次,运用三阶段DEA-Malmquist指数、HECKIT模型和门限模型实证检验发现:(1)金融规模影响企业R&D投资具有双门槛值,深化不足或过度扩张的金融规模不利于企业R&D投资.(2)金融效率影响企业R&D投资具有单门槛值,技术进步、纯技术效率、规模效率及全要素生产率提升有利于企业R&D投资.(3)金融发展对企业R&D投资影响更多体现在扩展边际.金融效率是跨越企业R&D投资过程中规模瓶颈的重要途径.