Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2016-02-15

Journal: 发光学报

Included Journals: CSCD、ISTIC、PKU、EI

Volume: 37

Issue: 2

Page Number: 192-196

ISSN: 1000-7032

Key Words: 氧化铝;原子层沉积;钝化;准稳态光电导

Abstract: 采用原子层沉积设备在p型单晶制绒硅上制备了不同厚度的AlOx薄膜.通过研究AlOx薄膜厚度对样品的反射率、少数载流子寿命以及电容-电压特性的影响,发现沉积32 nm的AlOx薄膜样品具有最好的钝化效果.另外,通过计算Si/AlOx界面处的固定电荷密度和缺陷态密度,发现32 nm厚的AlOx薄膜样品具有最低的缺陷态密度.系统研究了单晶硅材料的表面钝化机制,给出了影响样品载流子寿命的根本来源.