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刘峰

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工程师

性别：男

毕业院校：吉林大学

学位：博士

所在单位：化工海洋与生命学院

学科：高分子化学与物理

办公地点：D04-110

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Effect of the Hf content on the microstructure and ferroelectric properties of HfxZr1-xO2 thin films using an all-inorganic aqueous precursor solution

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发布时间：2022-11-10

发表时间：2022-10-02

发表刊物：NANOSCALE

卷号：13

期号：38

页面范围：16216-16225

ISSN号：2040-3364

上一条：Effects of deposition temperature on the properties of sputtered yttrium-doped hafnium oxide thin films

下一条：Spontaneously engineering heterogeneous interface of silver nanoparticles on alpha-Co(OH)(2) for boosting electrochemical oxygen evolution

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