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刘峰
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工程师

性别: 男

毕业院校: 吉林大学

学位: 博士

所在单位: 化工海洋与生命学院

学科: 高分子化学与物理

办公地点: D04-110

联系方式: 0427-2631844

电子邮箱: liufeng@dlut.edu.cn

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Optimizing Annealing Process for Ferroelectric Y-Doped HfO2 Thin Films by All-Inorganic Aqueous Precursor Solution

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发表时间: 2022-10-07

发表刊物: ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS

卷号: 7

期号: 2

ISSN号: 2199-160X

关键字: "annealing; chemical solution deposition; ferroelectrics; HfO2; thin films"

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