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刘峰
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工程师

性别：男

毕业院校：吉林大学

学位：博士

所在单位：化工海洋与生命学院

学科：高分子化学与物理

办公地点：D04-110

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Optimizing Annealing Process for Ferroelectric Y-Doped HfO2 Thin Films by All-Inorganic Aqueous Precursor Solution

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发布时间：2022-11-10

发表时间：2022-10-07

发表刊物：ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS

卷号：7

期号：2

ISSN号：2199-160X

关键字："annealing; chemical solution deposition; ferroelectrics; HfO2; thin films"

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