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先进材料与催化工程课题组
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Formation mechanism of cobalt silicide on silica by chemical vapor deposition of Co(SiCl3)(CO)4
发表时间:2022-10-04 点击次数:
第一作者: 赵安琪
通讯作者: 陈霄,管婧超,Christopher T. Williams,梁长海
发表时间: 2022-10-02
发表刊物: PHYSICAL CHEMISTRY CHEMICAL PHYSICS
文献类型: J
卷号: 13
期号: 20
页面范围: 9432-9438
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