边继明
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:中科院上海硅酸盐研究所
学位:博士
所在单位:物理学院
学科:微电子学与固体电子学. 凝聚态物理
办公地点:大连理工大学科技园C座301-1办公室
联系方式:E-mail:jmbian@dlut.edu.cn.
电子邮箱:jmbian@dlut.edu.cn
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Influence of Ar/H2 ratio on the characteristics of phosphorus-doped hydrogenated nanocrystalline silicon films prepared by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition
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论文类型:期刊论文
发表时间:2012-01-01
发表刊物:thin solid film
卷号:521
期号:10
页面范围:181-184