边继明
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:中科院上海硅酸盐研究所
学位:博士
所在单位:物理学院
学科:微电子学与固体电子学. 凝聚态物理
办公地点:大连理工大学科技园C座301-1办公室
联系方式:E-mail:jmbian@dlut.edu.cn.
电子邮箱:jmbian@dlut.edu.cn
扫描关注
脉冲激光沉积(PLD)法生长高质量ZnO薄膜及其发光性能
点击次数:
论文类型:期刊论文
发表时间:2006-12-30
发表刊物:发光学报
收录刊物:PKU、ISTIC、CSCD
卷号:27
期号:6
页面范围:958-962
ISSN号:1000-7032
关键字:ZnO薄膜;脉冲激光沉积;光致发光
摘要:采用脉冲激光沉积(PLD)法在单晶Si(100)衬底上生长ZnO薄膜,以X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和透射电镜(TEM)等手段分析了所得ZnO薄膜的晶体结构和微观形貌.优化工艺(700 ℃,20 Pa)下生长的ZnO薄膜呈c轴高度择优取向,柱状晶垂直衬底表面生长,结构致密均匀.室温光致发光(PL)谱分析结果表明,随着薄膜生长时O2分压的增大,近带边紫外发光峰与深能级发光峰之比显著增强,表明薄膜的结晶性能和化学计量比都有了很大的改善.O2分压为20 Pa时所生长的ZnO薄膜具有较理想的化学计量比和较高的光学质量.