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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2016-02-15

Journal:发光学报

Included Journals:EI、PKU、ISTIC、CSCD

Volume:37

Issue:2

Page Number:192-196

ISSN No.:1000-7032

Key Words:氧化铝;原子层沉积;钝化;准稳态光电导

Abstract:采用原子层沉积设备在p型单晶制绒硅上制备了不同厚度的AlOx薄膜.通过研究AlOx薄膜厚度对样品的反射率、少数载流子寿命以及电容-电压特性的影响,发现沉积32 nm的AlOx薄膜样品具有最好的钝化效果.另外,通过计算Si/AlOx界面处的固定电荷密度和缺陷态密度,发现32 nm厚的AlOx薄膜样品具有最低的缺陷态密度.系统研究了单晶硅材料的表面钝化机制,给出了影响样品载流子寿命的根本来源.