副教授 博士生导师 硕士生导师
其他任职：辽宁省能源材料及器件重点实验室副主任
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学
材料表面工程
办公地点：新三束4#楼311室
联系方式：
电子邮箱：
开通时间： ..
最后更新时间：..
点击次数：
发布时间：2019-03-11
论文类型：期刊论文
发表时间：2011-01-01
发表刊物：材料研究学报
收录刊物：CSCD、ISTIC、PKU、EI、Scopus
卷号：25
期号：4
页面范围：408-412
ISSN号：1005-3093
关键字：材料合成与加工工艺; 微晶硅薄膜; 吸收系数; 光学带隙
摘要：以Ar+SiH4作为反应气体，采用电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD)方法制备微晶硅薄膜，研究了基片温度对薄膜微观结构、吸
收系数、光学禁带宽度的影响．结果表明，随着基片温度的升高，薄膜的微观组织逐渐由非晶转化为微晶，薄膜的粗糙度单调增大，而H含量则单调减小。薄膜的光
学吸收系数随基片温度的升高而增大，禁带宽度由 1.89 eV降低到1.75 eV.
