大连理工大学主页平台管理系统吴爱民--吴爱民-- Influence of Ar/H-2 ratio on the characteristics of boron-doped nc-Si:H films prepared by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition

吴爱民

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副教授博士生导师硕士生导师

任职 : 辽宁省能源材料及器件重点实验室副主任

性别：男

毕业院校：大连理工大学

学位：博士

所在单位：材料科学与工程学院

学科：材料物理与化学. 材料表面工程

办公地点：新三束4#楼311室

联系方式： 0411-84706661-101

电子邮箱： aimin@dlut.edu.cn

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Influence of Ar/H-2 ratio on the characteristics of boron-doped nc-Si:H films prepared by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition

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发表时间： 2022-10-03

发表刊物： SURFACE COATINGS TECHNOLOGY

卷号： 228

期号： SUPPL.1

页面范围： S412-S415

ISSN号： 0257-8972

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