副教授 博士生导师 硕士生导师
其他任职：辽宁省能源材料及器件重点实验室副主任
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学
材料表面工程
办公地点：新三束4#楼311室
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发布时间：2019-03-10
论文类型：期刊论文
发表时间：2014-05-14
发表刊物：大连理工大学学报
收录刊物：CSCD、ISTIC、PKU
卷号：54
期号：3
页面范围：298-302
ISSN号：1000-8608
关键字：BCMg;磁控溅射;非晶;力学性能
摘要：采用多靶磁控共溅射技术,利用高纯B、C及 Mg单质靶材为溅射源,573 K 下在单晶Si(001)表面成功制备硬质非晶态BCMg薄膜.背散射扫描电镜(SEM)图显示薄膜成分均匀,与基体 Si片结合良好.X射线光电子能谱(XPS)分析表明薄膜中存在B-B、B-C、C-Mg等键态.X射线衍射仪(XRD)及高分辨透射电镜(HRTEM)测试结果表明薄膜为非晶态结构.某单质靶材溅射功率提高时,沉积速率及相应元素在薄膜中的含量随之上升.随着薄膜中 B含量增加,薄膜中B-B共价键数量增多,BCMg薄膜硬度与断裂韧性均上升.B含量为85%时,BCMg薄膜硬度及断裂韧性分别达到33.9 GPa及3 MPa·m1/2.
