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Indexed by:会议论文

Date of Publication:2014-07-08

Page Number:1-1

Key Words:铜锰氧化物 选择性刻蚀 CO氧化 氧化还原性能

Abstract:低温CO氧化具有重要理论和经济意义,一直是人们的研究热点[1]。尽管贵金属表现出了优越的CO氧化活性和稳定性,但是有限的储量和高昂的价格一直限制着它们的实际应用[2]。铜锰氧化物是著名的霍加拉特催化剂的主组分,CO氧化活性高、价格低廉[3,4]。大量的研究已经证实,CO在铜锰氧化物上的氧化遵循氧化-还原机理[5,6],因此调变铜锰氧化物催化剂的氧化-还原性能对于改善其CO氧化活性至关重要。本文报道一种简单的选择性刻蚀技术,即在铜、锰前驱物共沉淀过程中引入氨作为刻蚀剂,主体和表面组成分析(表1)清晰表明,氨能够选择性地刻蚀铜组分。H2-TPR(图1)结果显示,氨刻蚀有效促进了铜锰氧化物中晶格氧