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Indexed by:会议论文

Date of Publication:2015-04-01

Page Number:171-171

Key Words:高功率调制脉冲磁控溅射;Al/Si成分比;纳米复合涂层;TiAlSiN;循环氧化

Abstract:　　当前TiAlSiN薄膜其热稳定性可超过800℃.本文通过高功率调制脉冲磁控溅射技术在钛合金上制备一系列具有不同N2/Ar流量比的TiAlSiN纳米复合薄膜,研究了800℃低应力下具有不同Al/Si成分比TiAlSiN纳米复合薄膜的抗高温循环氧化行为.结果表明,较之无涂层保护钛合金,TiAlSiN纳米复合薄膜在氧化50h后仍具有优异的抗氧化性.在未进行氧化实验之前,所有iAlSiN薄膜RD谱均呈现漫散非晶特征.TEM结果表明,薄膜呈现非晶包裹约5nm的h-TiAlN纳米复合结构.