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立方氮化硼厚膜制备及表征

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Indexed by:会议论文

Date of Publication:2013-08-15

Page Number:239-239

Key Words:立方氮化硼;厚膜;防护涂层;纳米硬度;薄膜硬度;过渡层;反应磁控溅射;基片温度;压应力;靶材;

Abstract:引言立方氮化硼有许多优异的性能,其较高的硬度使得其在耐磨部件表面防护涂层方面有很好的应用前景。在现有的各种制备方法中,荷能离子的轰击是c-BN形核和生长不可缺少的条件。而荷能粒子的轰击不可避免的带来很高的压应力及薄膜内应力,进而导致涂层与基底的剥离。这也使得c-BN厚膜的制备遇到困难。本文通过在膜基界面处先沉积三元B-C-N层,实现了c-BN厚膜的制备。同时,本文也对薄膜的结构,成分,键合状态和纳米硬度进行了表征。

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