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Indexed by: Conference Paper

Date of Publication: 2012-09-13

Page Number: 143-147

Key Words: 低温;TiO2薄膜;直流磁控溅射;晶化

Abstract: 　　利用直流磁控溅射方法在硅片和钛合金基底上沉积制备了二氧化钛薄膜。主要研究了变化的基片偏压对薄膜性能的影响。用XRD和SEM分析了薄膜的晶体结构和表面形貌，利用纳米压痕仪，划痕仪，摩擦试验机分别测试了薄膜的纳米硬度，膜基界面结合力和摩擦性能。结果表明，本方法在不加热基片的条件下制备出表面光滑致密，力学性能和摩擦学性能良好的金红石相TiO2薄膜。