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透明陶瓷保护膜

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论文类型：期刊论文
发表时间：2000-05-30
发表刊物：电镀与环保
收录刊物：CSCD
文献类型：J
卷号：20
期号：3
页面范围：28-29
ISSN号：1000-4742
关键字：透明陶瓷膜;等离子体多弧-磁控溅射离子镀;等离子体型反应离子镀
摘要：采用等离子体型反应离子镀膜技术在经离子掺金的试件上镀制SiO2、SiO2-TiO2透明陶瓷膜,并对该膜进行电子探针成分定量分析、薄膜X射线衍射分析、透明陶瓷保护膜硬度测试和磨损实验.

上一条： Phase transitions in quasicrystals induced by friction and wear

下一条：一种新型的材料表面改性装置——强流脉冲电子束(电子炮)

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