董闯

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

性别:男

毕业院校:法国洛林国立综合理工学院

学位:博士

所在单位:材料科学与工程学院

电子邮箱:dong@dlut.edu.cn

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论文成果

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真空离子精饰镀膜技术研究

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论文类型:期刊论文

发表时间:2002-09-15

发表刊物:电镀与精饰

收录刊物:ISTIC

卷号:24

期号:5

页面范围:17-19

ISSN号:1001-3849

关键字:离子掺金 高能级磁控溅射离子镀 等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀

摘要:黄铜基材装饰件表面采用高能级溅射离子镀,镀不锈钢代替电镀钯-镍合金,采用等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀技术在不锈钢镀膜表面上镀制TiN/Au透明陶瓷保护膜SiO2、TiO2.并对各膜层的硬度、耐蚀性、耐磨性及相结构进行分析.