董闯
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:法国洛林国立综合理工学院
学位:博士
所在单位:材料科学与工程学院
电子邮箱:dong@dlut.edu.cn
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真空离子精饰镀膜技术研究
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论文类型:期刊论文
发表时间:2002-09-15
发表刊物:电镀与精饰
收录刊物:ISTIC
卷号:24
期号:5
页面范围:17-19
ISSN号:1001-3849
关键字:离子掺金 高能级磁控溅射离子镀 等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀
摘要:黄铜基材装饰件表面采用高能级溅射离子镀,镀不锈钢代替电镀钯-镍合金,采用等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀技术在不锈钢镀膜表面上镀制TiN/Au透明陶瓷保护膜SiO2、TiO2.并对各膜层的硬度、耐蚀性、耐磨性及相结构进行分析.