董闯

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

性别:男

毕业院校:法国洛林国立综合理工学院

学位:博士

所在单位:材料科学与工程学院

电子邮箱:dong@dlut.edu.cn

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论文成果

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透明陶瓷保护膜的研究

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论文类型:期刊论文

发表时间:2004-07-25

发表刊物:真空

收录刊物:PKU、ISTIC

卷号:41

期号:4

页面范围:55-57

ISSN号:1002-0322

关键字:离子掺金镀;高能级磁控溅射离子镀;等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀

摘要:对黄铜基材装饰件表面先采用高能级磁控溅射离子镀(专利号:85102600.1)技术镀不锈钢代替电镀钯-镍合金,再采用等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀(专利号:ZL98236950.6)技术在不锈钢镀膜表面上镀制TiN/Au/透明陶瓷保护膜SiO2、TiO2.对其硬度、耐蚀性及耐磨性进行分析.