董闯
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:法国洛林国立综合理工学院
学位:博士
所在单位:材料科学与工程学院
电子邮箱:dong@dlut.edu.cn
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透明陶瓷保护膜的研究
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论文类型:期刊论文
发表时间:2004-07-25
发表刊物:真空
收录刊物:PKU、ISTIC
卷号:41
期号:4
页面范围:55-57
ISSN号:1002-0322
关键字:离子掺金镀;高能级磁控溅射离子镀;等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀
摘要:对黄铜基材装饰件表面先采用高能级磁控溅射离子镀(专利号:85102600.1)技术镀不锈钢代替电镀钯-镍合金,再采用等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀(专利号:ZL98236950.6)技术在不锈钢镀膜表面上镀制TiN/Au/透明陶瓷保护膜SiO2、TiO2.对其硬度、耐蚀性及耐磨性进行分析.