|
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：法国洛林国立综合理工学院
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
电子邮箱：dong@dlut.edu.cn
扫描关注
C掺杂对离子注入合成beta- FeSi_2 薄膜的影响
点击次数：
论文类型：期刊论文
发表时间：2001-01-01
发表刊物：半导体学报
收录刊物：CSCD
卷号：22
期号：12
页面范围：1507
ISSN号：0253-4177
关键字：半导体薄膜; 金属硅化物; 离子注入; 透射电子显微镜