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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：法国洛林国立综合理工学院
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
电子邮箱：dong@dlut.edu.cn
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电弧离子镀/磁控溅射复合真空退火制备Ti2AlC涂层
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论文类型：期刊论文
发表时间：2019-01-01
发表刊物：电镀与涂饰
收录刊物：PKU
卷号：38
期号：21
页面范围：1160-1165
ISSN号：1004-227X
关键字：碳化铝钛;金属陶瓷;电弧离子镀;磁控溅射;真空退火;温度;微观结构
摘要：采用自主研发的大弧源技术,复合中频磁控溅射石墨靶,避免 H 元素的引入,在锆合金表面快速沉积了致密、超厚(约20 μm)的Ti-Al-C涂层.经过不同温度(550、650、750和850 ℃)和时间(1、2和3 h)的真空退火后发现,至少在650 ℃才能获得Ti2AlC结构,更高的温度会加速Ti2AlC的生成.高温沉积对制备Ti2AlC相涂层而言是必备的.