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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：法国洛林国立综合理工学院
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
电子邮箱：dong@dlut.edu.cn
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利用等离子体辅助脉冲磁控溅射实现多晶硅薄膜的低温沉积
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论文类型：期刊论文
发表时间：2011-11-15
发表刊物：物理学报
收录刊物：PKU、ISTIC、CSCD
卷号：61
期号：2
页面范围：499-508
ISSN号：1000-3290
关键字：多晶硅薄膜;电感耦合等离子体;磁控溅射;拉曼散射
摘要：本文报道了利用电感耦合等离子体辅助中频直流脉冲磁控溅射在温度300℃以下沉积氢化多晶硅薄膜的制备方法.利用拉曼散射、X射线衍射、透射电子衍射和傅里叶红外光谱对多晶硅薄膜进行了表征.详细研究了氢气在沉积过程中所起的作用,并结合Langmuir探针和发射光谱等等离子体诊断方法,对辅助等离子体源在多晶硅薄膜制备过程中所起到的作用进行了讨论.