大连理工大学主页平台管理系统董闯--中文主页-- 等离子体浸没式离子注入沉积技术及应用

论文成果

等离子体浸没式离子注入沉积技术及应用

点击次数：
论文类型：期刊论文
发表时间：2009-05-15
发表刊物：真空科学与技术学报
收录刊物：EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus
文献类型：J
卷号：29
期号：3
页面范围：255-263
ISSN号：1672-7126
关键字：等离子体浸没技术;表面改性;三维复杂构件;类金刚石薄膜;纳米金刚石薄膜
摘要：等离子体浸没式离子注入沉积是近年来迅速发展的一种材料表面改性新技术,其基本原理是,作为靶的工件外表面全部浸没在低气压、高密度的均匀等离子体中,工件上施加频率为数百赫兹、数千至数万伏高压负脉冲偏压.它克服了传统方法所具有的薄膜沉积或离子注入存在方向性的固有缺陷,因此在复杂形状的三维工件表面改性工艺与技术上表现出无与伦比的优越性.该技术可以有多种工作模式,在离子注入前、注入期间或注入后进行原位清洗、刻蚀或薄膜沉积.作为应用实例,本文给出在复杂形状构件上合成均匀类金刚石或纳米金刚石薄膜的实验结果,最后指出等离子体浸没式离子注入沉积技术的发展趋势和工业化应用尚需解决的问题.

上一条：微波ECR磁控溅射制备SiNx薄膜的XPS结构研究

下一条： Deep Modification of materials by thermal stress wave generated by irradiation of high-current pulsed electron beams

董闯 var u_u6_pic = new ImageScale("u_u6_",140,140,true,true);u_u6_pic.addimg("/_resources/group1/M00/00/42/ynZMg18RhUeAKDljAA1R4n5gKmM967.jpg","","董闯","9269");