董闯
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:法国洛林国立综合理工学院
学位:博士
所在单位:材料科学与工程学院
电子邮箱:dong@dlut.edu.cn
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高热稳定性和低电阻率C掺杂Cu薄膜的制备方法
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第一作者:李晓娜
发明设计人:聂利飞,董闯
授权日期:2009-12-26
授权号:ZL200910312326.7