董闯

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

性别:男

毕业院校:法国洛林国立综合理工学院

学位:博士

所在单位:材料科学与工程学院

电子邮箱:dong@dlut.edu.cn

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专利

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钢铁、钛合金低温脉冲离子氮碳共渗及阴极电弧离子镀M/MN交替镀厚膜工艺

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第一作者:董闯

发明设计人:陈宝清,陈大民,张庆祥,谷伟,张吉祥,胡小刚

申请号:CN201510209454.4

授权日期:2015-04-27

授权号:CN104862643A