林国强

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

任职 : 大连理工大学常州研究院院长(2012-2016)

性别:男

毕业院校:大连理工大学

学位:博士

所在单位:材料科学与工程学院

学科:材料物理与化学. 材料表面工程. 等离子体物理

办公地点:三束材料改性教育部重点实验室2号楼(老三束北楼)301室

联系方式:Tel:0411-84708380-8301 Emil:gqlin@dlut.edu.cn

电子邮箱:gqlin@dlut.edu.cn

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论文成果

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脉冲偏压电弧离子镀C-N-V薄膜的成分、结构与性能

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论文类型:期刊论文

发表时间:2010-06-01

发表刊物:物理学报

收录刊物:SCIE、PKU、ISTIC、CSCD

卷号:59

期号:6

页面范围:4296-4302

ISSN号:1000-3290

关键字:C-N-V薄膜;类金刚石薄膜;纳米复合薄膜;电弧离子镀

摘要:用脉冲偏压电弧离子镀方法在硬质合金基体上制备了一系列不同成分的C-N-V薄膜.用X射线光电子能谱、激光Raman光谱、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和纳米压痕等方法分别研究了薄膜的成分、结构与性能.Raman光谱,XRD和TEM结果表明,所制备的薄膜为在类金刚石(DLC)非晶基体上匹配有VN晶体的碳基复合薄膜.随V和N含量的增加,薄膜硬度与弹性模量先增加后下降,在N含量为20.4%,V含量为21.8%时薄膜硬度与弹性模量具有最大值,分别为36.8和569.7 GPa,高于相同条件下制备的DLC薄膜的硬度和弹性模量.V和N含量的改变会改变薄膜的相结构,以及DLC非晶基体相与VN晶体相的相对含量,此外还可以在薄膜中诱发纳米金刚石相的形成,从而对薄膜性能产生较大影响.