刘金远
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:中国科学技术大学
学位:博士
所在单位:物理学院
学科:等离子体物理
办公地点:物理学院 302
联系方式:手机:15841160373
电子邮箱:liuyuan@dlut.edu.cn
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霍尔推进器壁面材料二次电子发射及鞘层特性
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论文类型:期刊论文
发表时间:2014-04-23
发表刊物:物理学报
收录刊物:SCIE、EI、PKU、ISTIC、CSCD
卷号:63
期号:08
页面范围:288-294
ISSN号:1000-3290
关键字:霍尔推进器;壁面材料;鞘层二次电子发射
摘要:霍尔推进器放电通道等离子体与壁面相互作用形成鞘层,不同壁面材料的二次电子发射对推进器鞘层特性具有重要影响,本文针对推进器壁面鞘层区域建立二维物理模型,研究了氮化硼(BN)、碳化硅(SiC)和三氧化二铝(Al_2O_3)三种不同壁面材料的二次电子发射特性,在改进SiC材料二次电子发射模型的基础上,采用粒子模拟方法,讨论了壁面二次电子发射系数与电子温度和磁场强度的关系,研究了三种材料(BN,SiC和Al_2O_3)的鞘层特性,结果表明:修正的二次电子发射模型拟合曲线与实验曲线几乎一致;在相同电子温度下,三种材料(BN,SiC和Al_2O_3)的二次电子发射系数和壁面电子数密度依次增大,而鞘层电场和鞘层电势降依次减小,BN材料具有合适的二次电子发生射系数,使得霍尔推进器能在低电流下稳态工作。