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MEMS、半导体和精密机械的超临界清洗技术

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2007-05-30

Journal:清洗世界

Volume:23

Issue:5

Page Number:34-41

ISSN No.:1671-8909

Key Words:超临界流体清洗;微电子;半导体;金属氧化物;复杂零件;清洗工艺

Abstract:论述超临界流体清洗技术的研究现状和应用前景,结合现有的研究成果介绍超临界CO2清洗技术在微电子(MEMS)、半导体清洗、金属氧化物污染材料清洗、复杂零件清洗等方面的可行性和有效性,并对超临界CO2清洗工艺作了简要介绍.分析了当前清洗方法的问题和不足,指出了在这一领域今后进一步研究和开发急需解决的关键技术难题及可行性的解决方案.

Pre One:超临界CO2偶联溶胀剂法分离纯化甘草黄酮

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