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教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 辽宁省高校重点实验室主任
性别:男
毕业院校:日本国名古屋大学
学位:博士
所在单位:材料科学与工程学院
学科:材料加工工程
联系方式:0411-84708940
电子邮箱:tjuli@dlut.edu.cn
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强磁场对Al-Si合金中共晶硅生长的影响
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论文类型:期刊论文
发表时间:2009-10-20
发表刊物:轻合金加工技术
收录刊物:PKU
卷号:37
期号:10
页面范围:17-20
ISSN号:1007-7235
关键字:强磁场;Al-Si合金;共晶硅
摘要:对亚共晶Al-6%Si合金进行钠盐变质处理后,分别在不施加与施加强磁场的条件下,在液相区740℃、固液两相区590℃和固相区470℃三个温度,使合金快速冷却,观察到了共品硅的不同生长过程.磁感应强度B=0T时,共晶硅由短小的层片状至较长的层片状直至尖锐的纤维状;B=10T时,共晶硅由细小的弥散分布至复杂的丛簇状直至圆钝的颗粒状.即施加强磁场町以改变共晶硅的生长形态.