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论文类型：期刊论文

发表时间：2007-02-28

发表刊物：过程工程学报

收录刊物：Scopus、PKU、ISTIC、CSCD

卷号：7

期号：1

页面范围：71-74

ISSN号：1009-606X

关键字：Silicalite-1;沸石膜;二次生长;气体渗透

摘要：用纳米晶种涂层二次生长成膜法在大孔α-Al2O3(孔径4～6 μm)陶瓷管上合成Silicalite-1沸石膜.用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)表征分析了沸石膜的形态,并通过单组分气体渗透实验对合成膜管的渗透性能进行了测试.结果表明,合成的Silicalite-1沸石膜连续、互生,看不出晶间孔;沸石膜层厚8～10μm;常温常压下H2/N2的理想分离系数为3.9,超过其努森扩散值3.74,H2/C3H8的理想分离系数为19.1,远大于其Knudsen扩散比值4.69,且H2的渗透率达到1.43×10-6mol/(m2·s·Pa).气体分离数据表明,该膜没有明显的缺陷存在.