会议论文

常大磊

李小松,底兰波,杨晋华,徐勇,朱爱民

2011-08-08

A

161-161

PCVD;沉积温度;沉积技术;反应参数;二氧化钛光催化;半导体光催化;真空系统;空气净化;操作过程;胆嗽;

二氧化钛薄膜作为一种重要功能薄膜材料，在半导体光催化、太阳能电池、空气净化等领域有着广泛的应用前景。在现有二氧化钛薄膜的沉积技术中，等离子体化学气相沉积(PCVD)因其具有沉积温度低、反应参数容易控制等优点而被大量采用。但PCVD技术多数都是在低气压下进行，需要昂贵的真空系统以及复杂的操作过程。