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    孙志超

    • 副教授       硕士生导师
    • 性别:男
    • 毕业院校:大连理工大学
    • 学位:博士
    • 所在单位:化工学院
    • 学科:工业催化. 能源化工
    • 办公地点:化工实验楼B325
    • 联系方式:0411-84986124 13591172580
    • 电子邮箱:sunzhichao@dlut.edu.cn

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    免焙烧制备Ni2P/SiO2加氢脱硫催化剂

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    论文类型:期刊论文

    发表时间:2013-10-25

    发表刊物:石油学报(石油加工)

    收录刊物:EI、CSCD、Scopus

    卷号:29

    期号:5

    页面范围:767-772

    ISSN号:1001-8719

    关键字:Ni2P;SiO2;加氢脱硫;二苯并噻吩;免焙烧

    摘要:采用免焙烧的方法,直接将负载Ni(NO3)2和(NH4)2HPO4盐的前驱体通过程序升温还原(TPR)制备了Ni2P/SiO2加氢脱硫(HDS)催化剂.以质量分数为0.8%的二苯并噻吩/十氢萘溶液为模型化合物,考察了Ni2P/SiO2催化剂的HDS反应催化性能,并用XRD对催化剂进行了表征.结果表明,免焙烧法制备的Ni2P/SiO2催化剂的单层分散阈值在15%~25%(质量分数)之间.随负载量增加,Ni2P/SiO2催化剂的HDS活性增加,但直接脱硫路径(DDS)选择性降低;当活性组分负载量大于单层分散阈值时,继续增加负载量对催化剂粒度和反应性能影响不大.免焙烧法制备的Ni2P/SiO2催化剂的HDS活性与传统方法制备的催化剂相当(负载量大于单层分散阈值时)或更高(负载量小于单层分散阈值时),并且具有良好的反应稳定性.TPR过程中升温程序是影响免焙烧法制备的Ni2P/SiO2催化剂HDS性能的重要因素;低温阶段升温速率对催化剂性能没有明显影响,而在400℃停留一段时间则有利于提高其活性.