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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料表面工程
办公地点：Room 218, School of Materials Science and Engineering
联系方式：0411-84707254
电子邮箱：xpzhu@dlut.edu.cn
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高功率脉冲磁控溅射沉积原理与工艺研究进展
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论文类型：期刊论文
发表时间：2012-01-01
发表刊物：中国表面工程
收录刊物：PKU、ISTIC、CSCD
卷号：25
期号：5
页面范围：15-20
ISSN号：1007-9289
关键字：高功率脉冲磁控溅射; 等离子体; 薄膜; 研究进展
摘要：高功率脉冲磁控溅射技术是一种峰值功率超过平均功率2个量级、溅射靶材原子高度离化的脉冲溅射技术,作为一种新的离子化物理气相沉积技术,已成为国际研究
的热点,有关高功率脉冲放电、等离子体特性、薄膜及其工艺等方面的研究进展十分迅速。文中从高功率脉冲磁控溅射的原理出发,介绍10多年来高功率脉冲电源
的发展,从高功率脉冲放电等离子体特性与放电物理、等离子体模型,以及沉积速率和薄膜特性等方面综述技术的研究进展。