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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 《Plasma Science and Technology》学术期刊编委
性别：男
毕业院校：大连工学院
学位：硕士
所在单位：物理学院
学科：等离子体物理
办公地点：主楼东侧楼（物理系楼）304室
联系方式：0411-84707981
电子邮箱：wangdez@dlut.edu.cn
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甚高频放电加速纳米硅薄膜沉积速度的机理研究
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论文类型：期刊论文
发表时间：2009-03-15
发表刊物：核聚变与等离子体物理
收录刊物：Scopus、PKU、ISTIC、CSCD
卷号：29
期号：1
页面范围：87-91
ISSN号：0254-6086
关键字：低气压放电;硅烷;尘埃;纳米硅
摘要：建立一维自洽流体模型,对低压甚高频等离子体放电中产生的主要粒子建立连续性方程、动量方程和电流平衡方程.分析了甚高频对纳米粒子的种子离子SiH3(及电子和正离子SiH3+的影响,给出了种子离子、电子以及正离子密度随频率变化的时空演化过程.结果表明改变频率可以改变SiH3(的密度,从而控制粒子的成核及生长.同时甚高频放电也改变了等离子体中电子和正离子密度以及电场的强度,从而加快等离子体中的化学反应速度和纳米粒子的沉积速度.