|
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 《Plasma Science and Technology》学术期刊编委
性别：男
毕业院校：大连工学院
学位：硕士
所在单位：物理学院
学科：等离子体物理
办公地点：主楼东侧楼（物理系楼）304室
联系方式：0411-84707981
电子邮箱：wangdez@dlut.edu.cn
扫描关注
常温下采用射频等离子体法合成碳化硅膜
点击次数：
论文类型：期刊论文
发表时间：2005-03-25
发表刊物：真空
收录刊物：PKU、ISTIC
卷号：42
期号：2
页面范围：27-30
ISSN号：1002-0322
关键字：碳化硅膜;射频等离子体;气相沉积
摘要：采用射频等离子体增强的气相沉积法,以硅烷和乙烯为原料,在常温下成功的合成了碳化硅薄膜.对于该条件下合成的碳化硅薄膜的结构特征,采用SEM、TEM、XRD、IR等手段进行了分析;分析结果表明我们的样品是以碳硅键为主的薄膜.