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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 《Plasma Science and Technology》学术期刊编委
性别：男
毕业院校：大连工学院
学位：硕士
所在单位：物理学院
学科：等离子体物理
办公地点：主楼东侧楼（物理系楼）304室
联系方式：0411-84707981
电子邮箱：wangdez@dlut.edu.cn
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大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断
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论文类型：期刊论文
发表时间：2010-04-01
发表刊物：物理学报
收录刊物：SCIE、PKU、ISTIC、CSCD
卷号：59
期号：4
页面范围：2653-2660
ISSN号：1000-3290
关键字：大气压等离子体射流;发射光谱;电子激发温度;多晶硅薄膜沉积
摘要：本文采用发射光谱法诊断了大气压下Ar气、SiCl_4及H_2气混合气体(Ar/SiCl_4/H_2)射频放电等离子体射流特性.利用Si原子谱线强度计算了电子激发温度并以此估算了Si原子数密度,研究了射频功率及气体流量对电子激发温度和Si原子数密度以及SiCl_4解离率的作用.